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第718章光刻机（第1页）

第718章光刻机

南广林果然不愧是我国计算机领域首屈一指的科学家，在他的感召下，两周时间就有十多个青年计算机领域的科研工作者加入到他麾下。

研发团队的架子算是搭起来，下一步就要确立主攻方向。

南广林很尊重韩小东，毕竟人家掏出了现金白银，整整两千万，那可是钱，不是纸。

为此南广林专门找韩小东就此事做了一番长谈。

“小东，如今研发人员有了，咱们也该确定一下未来的研发方向，我想听听你的意见。”

韩小东很谦虚，“南工，在这方面我完全是个门外汉，主要还是要听你的意见。”

南广林思索了一下，“小东，我还是想研发芯片。”

果然如此。

前世，南广林在离开连想后，加入了园洲公司，在二零零一年四月研发出华夏第一片自己设计的嵌入式芯片园洲一号，在当时的科技界造成了非常大的轰动。

只可惜，搭载了园洲一号芯片的NC是基于Linux工作环境，它联上互联网后同样需要服务器端的支持，而服务器端被微软和英特尔（WinTel）联盟把持，他们根本不支持NC内嵌的Linux工具软件，因此NC在互联网环境下的使用大受局限。

后期南广林和园洲公司的董事长在这件事情上产生了很大的分歧，最后南广林不得不负气离开，导致这个芯片项目中途落马。

韩小东不想让历史重演一遍。

他斟酌了一下语言，“南工，你有没有想过？

咱们能不能研发出光刻机来？”

“光刻机？”

南广林有些吃惊，“小东，难道你想研发光刻机？

这东西可比芯片更费钱。”

“南工，我说过，钱是我考虑的问题，你只需要考虑科研上的事情，南工，你就说依靠我们自己的力量能不能做成这件事，如果可行，花多少钱我都愿意。”

南广林并没有马上回答韩小东这个问题，他有着科技工作者独有的严谨，他足足思考了三分钟，这才缓缓开口。

“小东，其实咱们国家的光刻机制造，很早以前就开始了。”

1965年华夏科学院研制出65型接触式光刻机。

1970年，华夏科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。

1972年，武汉无线电元件三厂编写《光刻掩模版的制造》。

1977年，我国最早的光刻机-GK-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。

1978年，1445所在GK-3的基础上开发了GK-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。

1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。

1981年，华夏科学院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。

1982年，科学院109厂研制出了KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。

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